除臭設(shè)備常用低溫等離子體技術(shù)
脫臭原理：介質(zhì)阻擋放電過(guò)程中，等離子體內(nèi)部發(fā)生富含極高化學(xué)活性的粒子，如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反響，終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O等物質(zhì)，然后到達(dá)凈化廢氣的目的。
適用范圍：等離子除臭設(shè)備適用范圍廣，凈化效率高，***別適用于其它辦法難以處理的多組分惡臭氣體，如化工等職業(yè)。
***點(diǎn)：電子能量高，幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;運(yùn)行費(fèi)用低;反響快，除臭設(shè)備啟動(dòng)、中止十分迅速，隨用隨開(kāi)。
缺點(diǎn)：除臭設(shè)備一次性投資較高。
uv光氧催化設(shè)備
