紫外光降解凈化設(shè)備與低溫等離子體廢氣凈化設(shè)
紫外光降解凈化設(shè)備與低溫等離子體廢氣凈化設(shè)備廢氣處理技術(shù)比較
UV光解凈化設(shè)備與低溫等離子體凈化設(shè)備廢氣處理技術(shù)比較該子鏈降解為CO2、H2O等低分子化合物。
低溫等離子體是繼固體、液體和氣體后的***四種狀態(tài)。當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的點(diǎn)火電壓時(shí),氣體分子被分解產(chǎn)生各種離子、原子和自由基(包括電子)的混合物。雖然放電過程之中電子溫度很低,但并重粒子的溫度很高,整個(gè)系統(tǒng)呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱之為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子以及廢氣之中的污染物在很長(zhǎng)的時(shí)間之內(nèi)分解污染物,然后進(jìn)行各種反應(yīng),達(dá)到污染物降解的目的。
2、 主要設(shè)備配備了有所不同的
UV光降解凈化設(shè)備,主要由德***技術(shù)UV燈和光催化活性纖維濾膜組成。正、負(fù)電子與氧不均衡,需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧。
低溫等離子體廢氣凈化裝置由電源和齒板放電裝置供電,產(chǎn)生低強(qiáng)度、高濃度、高能活性自由基。幾毫秒之后,危害廢氣分子的氧化還原反應(yīng)立即進(jìn)行。***多數(shù)污染物被降解成二氧化碳和水,很難處理。
3、 有所不同的凈化能力
UV光解凈化設(shè)備是臭氣裂解過程之中細(xì)菌的分子鍵,通過臭氧氧化破壞細(xì)菌的核酸,從而達(dá)到除臭殺菌的目的。低溫等離子體凈化器利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性,催化未經(jīng)處理的污染物和產(chǎn)生的物質(zhì)的氧化反應(yīng),使危害廢氣經(jīng)多級(jí)凈化之后排放。
相似性:
I.除臭:去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無機(jī)醇等主要污染物和各種氣味。除臭效率達(dá)95%,除臭效果******超過***家1993年頒布的污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(gb14554-93)。
2、 無需添加任何物質(zhì):只需設(shè)置相應(yīng)的排氣管和排氣功率,使臭氣通過設(shè)備進(jìn)行除臭和分解,不添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
3、 適應(yīng)性強(qiáng):適應(yīng)有所不同臭氣物質(zhì)濃度低、風(fēng)量小、除臭凈化處理,可每天時(shí)隔工作24小時(shí),運(yùn)行平穩(wěn)可信。
4、 運(yùn)行成本低:無機(jī)械動(dòng)作,無噪音,無***定管理和日常維護(hù)。只需要定期檢查。這臺(tái)設(shè)備的能耗很高。(每個(gè)處理量為1000立方米小時(shí),耗電量?jī)H為0.1度左右。電能),設(shè)備風(fēng)阻很低<30pa,可節(jié)約***量廢氣能源消耗。
5、 無需預(yù)處理:惡臭氣體無需***定預(yù)處理,如加熱、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度-30℃-95℃,濕度40-98。
6、 占地面積***,設(shè)備重量輕:適用于安裝輕巧,空間狹窄,設(shè)備面積<1㎡處理風(fēng)量10000m3h等***定情況。
7、 進(jìn)口材料制造:防火、耐腐蝕、性能平穩(wěn)、使用壽命短。
8、 節(jié)能高科技產(chǎn)品:由專家和我公司工程技術(shù)人員通過專家和我公司工程技術(shù)人員長(zhǎng)期反復(fù)試驗(yàn)開發(fā)的低科技環(huán)保凈化產(chǎn)品,能完全分解異味。該氣體有毒危害,可達(dá)到除臭效果。惡臭氣體經(jīng)分解之后,全然實(shí)現(xiàn)無害化排放,無二次污染,同時(shí)達(dá)到消毒滅菌的效果。
因此,結(jié)合低溫等離子體廢氣凈化設(shè)備和惡臭氣體紫外光解凈化設(shè)備的***點(diǎn)。它們分為兩個(gè)區(qū)域:紫外光解和低溫等離子體分解。惡臭氣體***先通過紫外光解區(qū)進(jìn)入低溫等離子體,然后經(jīng)過多個(gè)階段。凈化之后達(dá)標(biāo)排放!